Artikel vom 09.06.2009, Druckdatum 22.11.2024 | |
Oerlikon Solar mit Cell Award 2009 ausgezeichnet Der weltweit führende Anbieter von Verfahren und Produktionsanlagen für Dünnschicht-Silizium Photovoltaik (PV), die Schweizer Oerlikon Solar, ist Gewinner des CELL AWARD 2009. Die Jury zeichnete das PECVD-System KAI 1200 von Oerlikon Solar als „Bestes technisches Produkt für die Herstellung von Dünnschicht-Solarmodulen“ auf der diesjährigen Intersolar aus. Mit der auf dem PECVD-Verfahren (plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung) basierenden Anlage KAI 1200 werden Silizium-Absorberschichten aufgebracht, die den Kern der Micromorph®-Dünnschicht-Solartechnologie von Oerlikon Solar bilden. „Wir sind sehr stolz auf diesen Erfolg und auf die damit verbundene Anerkennung der führenden Technologie und hochwertigen Produktionsanlagen von Oerlikon Solar“, sagte Jeannine Sargent, CEO von Oerlikon Solar. „Diese Auszeichnung spiegelt unsere intensive Forschungs- und Entwicklungsarbeit auf dem Gebiet der Dünnschicht Photovoltaik wider. Wir von Oerlikon Solar bleiben auch weiterhin bestrebt, unsere Rolle als Technologieführer beizubehalten und unser erklärtes Ziel, Solarenergie wirtschaftlich zu machen, zu erreichen.“ Oerlikon Solar ist heute eigenen Angaben zufolge Weltmarktführer von End-to-End-Produktionslösungen auf dem Gebiet der Dünnschicht-Silizium-Solartechnologie. Die zukunftsweisende PV-Fertigungstechnologie sei gegenwärtig bereits bei weltweit zehn Kunden in Produktion oder im Aufbau. Die ausgelieferten Anlagen verfügen über eine jährliche Produktionskapazität von 600 MWp (Megawattpeak), genügend Energie, um damit 480.000 Haushalte mit Elektrizität zu versorgen. Mit der auf dem PECVD-Verfahren (plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung) basierenden Anlage KAI 1200 von Oerlikon Solar werden Silizium-Absorberschichten aufgebracht, die den Kern der Micromorph®-Dünnschicht-Solartechnologie von Oerlikon Solar bilden. Das Aufbringen dieser Schichten ist einer der kritischsten Produktionsschritte, und die Qualität dieses Herstellungsschrittes beeinflusst in hohem Masse Effizienz und Leistung der Dünnschicht-Solarmodule. Außer für die Produktion von qualitativ hochwertigen Absorberschichten wurde die KAI 1200 Unternehmensangaben zufolge auch dazu entwickelt, die Produktionsgeschwindigkeit signifikant zu steigern und so die Zykluszeit um über 30 Prozent zu reduzieren. Die durch die Kai 1200 erzielten Verbesserungen sind ein wesentlicher Beitrag zur Senkung der Gesamtproduktionskosten und damit zugleich auf dem Weg, Netzparität zu erreichen. Auch wurde die KAI 1200 von ihrer ursprünglichen Verwendung zur Herstellung von Flachbildschirmen weiterentwickelt, so das Unternehmen weiter. Die Anpassung und Optimierung des dort bereits bewährten PECVD-Verfahrens für die Herstellung von Dünnschicht-Silizium Photovoltaik erforderte die Bewältigung einiger bedeutender technischer Herausforderungen; insbesondere die Erhöhung der Plasmafrequenz zur Verbesserung der Depositionsgeschwindigkeit. Außerdem galt es sicherzustellen, dass der mit erhöhter Plasmaquellenfrequenz einhergehende Effekt der „stehenden Welle“ nicht zu einem Homogenitätsverlust und so zu einer verringerten Moduleffizienz führt. Ingenieure von Oerlikon Solar entwickelten ein Verfahren, zur Nutzung der Plasmaquellen-Anregungsfrequenz im RFBereich. Diese ist im Oerlikon Solar PECVD Verfahren mit 40 MHz um ein Mehrfaches höher als die Industrienorm von 13,56 MHz. Auf der Grundlage von gemeinsam mit dem IMT in Neuchâtel und der EPFL in Lausanne, beide in der Schweiz, durchgeführten Forschungsarbeiten hat Oerlikon Solar so eine dielektrische Linse entwickelt, die den Effekt der stehenden Welle beseitigt. „Durch die 40-MHz-VHF-Technologie, die in unserer patentierten Plasma Box® steckt, konnte die Depositionsgeschwindigkeit erheblich gesteigert und die Qualität der Absorberschicht verbessert werden, wodurch Rekordwerte bei der Effizienz unserer Dünnfilm-Silizium-Solartechnologie erzielt werden können“, erklärte Dr. Jürg Henz, Leiter des Geschäftsbereichs Thin Film. „Wo früher typische Depositionsraten von ein bis zwei Ångström erreicht wurden, konnte Oerlikon Solar mit der KAI 1200 die Abscheidegeschwindigkeit auf den1,4 Quadratmeter großen Solarmodulen verdoppeln ohne die Schichtqualität zu mindern. Amorphe, einschichtige Module erreichen damit heute einen anfänglichen Wirkungsgrad von 9,6 Prozent, Micromorph-Zellen liegen bereits bei über 13 Prozent.“ Von den ersten Konzepten Anfang 2000 an habe Oerlikon Solar diese neue Plasmaquelle erfolgreich in die Massenproduktion geführt. Seitdem wurden Unternehmensangaben zufolge mehr als 900.000 Dünnschicht-Silizium-Solarmodule unter Anwendung von Oerlikon Solars patentierter Plasma Box®-40-MHz-Technologie produziert. Quelle: Oerlikon Solar |